什么是杂质半导体_什么是杂质
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江苏鑫华半导体取得三氯氢硅杂质去除装置专利,能大幅度增加吸附...金融界2024年11月2日消息，国家知识产权局信息显示，江苏鑫华半导体科技股份有限公司取得一项名为“一种三氯氢硅杂质去除装置”的专利，授权公告号CN 221933344 U,申请日期为2024年1月。专利摘要显示，本实用新型涉及三氯氢硅处理的技术领域，特别是涉及一种三氯氢硅杂质去除小发猫。
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上海积塔半导体取得改善晶圆边缘杂质颗粒污染清洗装置专利,避免...金融界2024年11月21日消息，国家知识产权局信息显示，上海积塔半导体有限公司取得一项名为“一种改善晶圆边缘杂质颗粒污染的清洗装置”的专利，授权公告号CN 222020198 U,申请日期为2024年1月。专利摘要显示，本申请提供一种改善晶圆边缘杂质颗粒污染的清洗装置，应用于晶圆等会说。
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上海超硅半导体申请检测硅片中金属杂质的方法专利,能实现原始晶圆...金融界2024年11月28日消息，国家知识产权局信息显示，上海超硅半导体股份有限公司申请一项名为“一种检测硅片中金属杂质的方法”的专利，公开号CN 119028856 A,申请日期为2024年8月。专利摘要显示，本发明涉及一种检测硅片中金属杂质的方法，所述方法包括以下步骤：将待检测好了吧！
...极化电子层的半导体激光元件专利,抑制激光被杂质吸收的内部光学损耗金融界2024年12月2日消息，国家知识产权局信息显示，安徽格恩半导体有限公司申请一项名为“一种具有自旋极化电子层的半导体激光元件”的是什么。 本发明自旋极化电子层控制自旋边界态，增强激光元件的自旋极化率，激发并提升自旋波传播，抑制激光被未离化Mg杂质吸收的内部光学损耗。
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...半导体取得半导体零部件加工用清洗装置专利,防止含有重金属杂质的...本实用新型涉及半导体清洗技术领域，尤其涉及一种半导体零部件加工用清洗装置；技术问题：传统的半导体零件清洗装置在清洗工件时，溶液内部的重金属杂质不及时去除可能会导致溶液内重金属含量增高；技术方案：一种半导体零部件加工用清洗装置，包括有处理箱、放置组件、调节组件、..
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...半导体结构制备方法及制备系统专利,降低沉积金属氮化层时的杂质含量从而降低了沉积金属氮化层时的杂质含量，可以提高沉积的金属氮化层的致密性，降低电阻，改善器件性能。最后在金属氮化层远离衬底的一侧形成金属填充层，金属氮化层和金属填充层形成互连结构的导电层。以便形成导电性能良好的半导体互连结构。
...申请半导体三极管引线支架氧化保护装置专利,实现防止外界灰尘杂质...金融界2024年11月21日消息，国家知识产权局信息显示，石家庄天林石无二电子有限公司申请一项名为“一种半导体三极管引线支架氧化保护装还有呢？ 同时在浸涂完成后侧板会进行复位滑动，使得密封板对浸涂槽进行密封工作，以此实现防止了外界灰尘杂质掉落至浸涂箱内影响后续的浸涂效果还有呢？
苏州市惠利华电子取得半导体电路板浸洗组件专利,充分保证半导体...苏州市惠利华电子有限公司取得一项名为“一种半导体电路板浸洗组件”的专利，授权公告号CN 221901102 U,申请日期为2024年2月。专利摘要显示，本实用新型提供一种半导体电路板浸洗组件，涉及半导体电路板生产技术领域，以解决由于浸洗液反复使用，使得其中的杂质漂浮在表面，在是什么。
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华虹半导体申请BCD芯片制造方法和芯片专利,提高芯片性能本申请涉及半导体集成电路制造技术领域，具体涉及一种BCD芯片制造方法和BCD芯片。其中方法包括：提供第一导电类型半导体衬底；向第一导电类型半导体衬底的上表面注入第二导电类型杂质，在第一导电类型半导体衬底上表面的表层中形成第二导电类型埋层；通过掺杂外延生长工艺在等会说。
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...科技有限公司气体纯化技术可达1-10ppt,产品应用于半导体芯片等行业是什么？能够应用于哪些领域！公司回答表示：湖北玖恩智能科技有限公司掌握全面的气体提纯核心技术，可将大宗气体及三十多种特气中的杂质脱除深度至1ppb以下，XCDA及CO2纯化能够达到1-10ppt水平。主要产品适用于半导体芯片、化合物半导体、光伏、光纤、LCD及LED面板、化后面会介绍。
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