什么是光刻胶的用途_什么是光刻胶
常青科技:募投项目部分产品可用于生产高端光刻胶投资者：请问贵司的光刻胶产品怎么样了？常青科技董秘：尊敬的投资者，您好！公司主要从事高分子新材料特种单体及专用助剂的研发、生产和销售，致力于为下游高分子新材料的产品制造、性能改善、功能增强提供支撑，属于精细化工行业的高分子新材料细分领域。公司募投项目部分产品小发猫。
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天承科技:主要产品为功能性湿电子化学品,不涉及光刻胶金融界7月31日消息，有投资者在互动平台向天承科技提问：董秘您好，请问公司产品跟光刻胶领域有关联吗？公司回答表示：公司目前主要产品为功能性湿电子化学品，不涉及光刻胶，但公司与感光材料(包括光刻胶)属于电子电路、半导体生产过程中不同制程的关键材料。本文源自金融界AI电等会说。
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浙江奥首取得一种芯片光刻胶剥离液专利金融界2024年10月16日消息，国家知识产权局信息显示，浙江奥首材料科技有限公司取得一项名为“一种芯片光刻胶剥离液、其制备方法及用途”的专利，授权公告号CN 117031895 B,申请日期为2023 年8 月。
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兴业股份:半导体光刻胶用树脂等产品处于送样测试阶段金融界4月2日消息，有投资者在互动平台向兴业股份提问：请问贵公司公司的半导体光刻胶用酚醛树脂、特种半导体封装用酚醛树脂等一批特种有机合成功能新材料，目前研发进展如何。公司回答表示：公司相关产品目前处于送样测试阶段，公司会根据潜在客户的反馈不断完善产品技术参数是什么。
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珠海莫界科技申请纳米压印光刻胶及其制备方法专利,解决现有的光刻...该制备方法包括：提供笼型聚倍半硅氧烷低聚物、单官能团功能单体、有机硅烷、助剂、光引发剂和有机溶剂；利用所述笼型聚倍半硅氧烷低聚物、单官能团功能单体、有机硅烷、助剂、光引发剂和有机溶剂，制备得到所述纳米压印光刻胶。本申请旨在解决现有的光刻胶的抗蚀刻性能和刻等我继续说。
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浙江奥首材料科技申请一种用于半导体化合物光刻胶的剥离液专利,...金融界2024 年9 月18 日消息，天眼查知识产权信息显示，浙江奥首材料科技有限公司申请一项名为“一种用于半导体化合物光刻胶的剥离液、其制备方法及用途“公开号CN202410880916.4,申请日期为2024 年7 月。专利摘要显示，本发明涉及一种用于半导体化合物光刻胶的剥离液、..
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兴业股份:半导体光刻胶用酚醛树脂目前尚处于送样阶段南方财经1月21日电，兴业股份发布风险提示公告，公司主要业务为有机合成树脂为主的功能新材料的研发、生产、销售和相关技术服务，公司近期关注到有媒体把公司列为光刻胶概念股，公司的半导体光刻胶用酚醛树脂目前尚处于送样阶段，相关产品暂未形成销售收入。
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万润股份股价微涨0.90% 公司布局半导体光刻胶材料领域截至2025年6月4日收盘，万润股份股价报11.19元，较前一交易日上涨0.90%。当日成交量为127261手，成交额达1.41亿元。万润股份属于电子化学品、新材料等板块，主营业务涵盖功能性材料、医药中间体等领域。公司近年来积极拓展半导体材料业务，涉及光刻胶单体、树脂及半导体制程后面会介绍。
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天风证券:光刻胶材料国产替代进行时 色浆最具预期差验证周期长光刻胶按下游应用主要分为PCB、显示、半导体三类。光刻胶产品的技术壁垒较高且其功能性和产品质量直接影响电子元器件、部件的功能和稳定性，因此下游对光刻胶专用化学品供应商认证所需时间周期较长。一般来说，面板光刻胶的验证周期为1-2年，半导体光刻胶的验证等会说。
光刻胶巨头 JSR 韩国 EUV 光刻胶生产基地开建,预计 2026 年投产将生产可用于EUV 光刻的MOR 光刻胶，目标2026 年建成投产。这也是韩国境内的首个同类光刻胶工厂。适用于EUV 制程的MOR 光刻胶能够替代低端化学放大光刻胶，在确保超精细工艺的竞争力方面发挥着关键作用。JSR Micro Korea 新工厂有望直接向韩国本土两大半导体制造巨头小发猫。
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